作者Alan Hastings具有淵博的集成電路版圖設計知識和豐富的實踐經驗。本書以實用和權威性的觀點全面論述了模擬集成電路版圖設計中所涉及的各種問題及目前的最新研究成果。書中介紹了半導體器件物理與工藝、失效機理等內容；基于模擬集成電路設計所采用的3種基本工藝︰標準雙極工藝、CMOS 柵工藝和BiCMOS工藝，重點探討了無源器件的設計與匹配性問題，二極管設計，雙極型晶體管和場效應晶體管的設計與應用，以及某些專門領域的內容，包括器件合並、保護環、焊盤制作、單層連接、ESD結構等；最後介紹了有關芯片版圖的布局布線知識。 本書可作為相關專業高年級本科生和研究生教材，對于專業版圖設計人員也是一本極具價值的參考書。

1 Device Physics 1.1 Semiconductors 1.1.1.Generation and Recombination 1.1.2.Extrinsic Semiconductors 1.1.3.Diffusion and Drift 1.2 PN Junctions 1.2.1.Depletion Regions 1.2.2.PN Diodes 1.2.3.Schottky Diodes 1.2.4.Zener Diodes 1.2.5.Ohmic Contacts 1.3 Bipolar Junction Transistors 1.3.1 Beta 1.3.2.I-V Characteristics 1.4 MOS Transistors 1.4.1.Threshold Voltage 1.4.2.I-V Characteristics 1.5 JFET Transistors 1.6 Summary 1.7 Exercises 2 Semiconductor Fabrication 2.1 Silicon Manufacture 2.1.1.Crystal Growth 2.1.2.Wafer Manufacturing 2.1.3.The Crystal Structure of Silicon 2.2 Photolithography 2.2.1.Photoresists 2.2.2.Photomasks and Reticles 2.2.3.Patterning 2.3 Oxide Growth and Removal 2.3.1.Oxide Growth and Deposition 2.3.2.Oxide Removal 2.3.3.Other Effects of Oxide Growth and Removal 2.3.4.Local Oxidation of Silicon（LOCOS） 2.4 Diffusion and Ion Implantation 2.4.1.Diffusion 2.4.2.Other Effects of Diffusion 2.4.3.Ion Implantation 2.5 Silicon Deposition and Etching 2.5.1.Epitaxy 2.5.2.Polysilicon Deposition 2.5.3.Dielectric Isolation 2.6 Metallization 2.6.1.Deposition and Removal of Aluminum 2.6.2.Refractory Barrier Metal 2.6.3. Silicidation 2.6.4.Interlevel Oxide，Interlevel Nitride，and Protective Overcoat 2.7 Assembly 2.7.1 Mount and Bond 2.7.2 Packaging 2.8 Summary 2.9 Exercises 3 Representative Processes 3.1 Essential Features 3.1.1.Essential Features 3.1.2.Fabrication Sequence Starting Material N-Buried Layer Epitaxial Growth Isolation Diffusion Deep-N+ Base Implant Emitter Diffusion Contact Metallization Protective Overcoat 3.1.3.Available Devices NPN Transistors PNP Transistors Resistors Capacitors 3.1.4.Process Extensions Up-Down Isolation Double-Level Metal Schottky Diodes High-Sheet Resistors Super-Beta Transistors 3.2 Fabrication Sequence 3.2.1. Essential fEATURES 3.2.2.fABRICATION sEQUENCE Starting Material Epitaxial Growth N-Well Diffusion Inverse Moat Channel Stop Implants LOCOS Processing and Dummy Gate Oxidation Threshold Adjust Polysilicon Deposition and Patterning Source/Drain Implants Contacts Metallization Protective Overcoat 3.2.3.Available Devices NMOS Transistors PMOS Transistors Substrate PNP Transistors Resistors 3.2.4.pROCESS eXTENSIONS Double-Level Metal Shallow Trench Isolation Silicidation Lightly Doped Drain（LDD）Transistors Extended-Drain，High-Voltage Transistors 3.3 Available Devices 3.3.1.Essential Features 3.3.2.Fabrication Sequence Starting Material N-Buried Layer Epitaxial Growth N-Well Diffusion and Deep-N+ Base Implant Inverse Moat cHANNEL sTOP iMPLANTS locos pROCESSING AND dUMMY gATE oXIDATION Threshold Adjust Polysilicon Deposition and Pattern Source/Drain Implants Metallization and Protective Overcoat Process Comparison 3.3.3.Available Devices NPN Transistors PNP Transistors Resistors 3.3.4 Process Extensions Advanced Matel Systems Dielectric Isolation 3.4 Summary 3.5 Exercises 4 Failure Mechanisms 5 Resistors 6 Capacitors and Inductors 7 Matching of Resistors and Capacitors 8 Bipolar Transistors 9 Applications of Bipolar Tansistors 10 Diodes 11 Field-Effect Transistors 12 Applications of MOS Transistors 13 Special Topics 14 Assembling the Die Appendices A．Table of Acronyms Used in the Text B．The Miller Indices of a Cubic Crystal C．Sample Layout Rules D．Mathematical Derivations E．Sources for Layout Editor Software Index

2001年7月間，電子工業出版社的領導同志邀請各高校十幾位通信領域方面的老師，商量引進國外教材問題。與會同志對出版社提出的計劃十分贊同，大家認為，這對我國通信事業、特別是對高等院校通信學科的教學工作會很有好處。 教材建設是高校教學建設的主要內容之一。編寫、出版一本好的教材，意味著開設了一門好的課程，甚至可能預示著一個嶄新學科的誕生。20世紀40年代MIT林肯實驗室出版的一套28本雷達叢書，對近代電子學科、特別是對雷達技術的推動作用，就是一個很好的例子。 我國領導部門對教材建設一直非常重視。20世紀80年代，在原教委教材編審委員會的領導下，匯集了高等院校幾百位富有教學經驗的專家，編寫、出版了一大批教材︰很多院校還根據學校的特點和需要，陸續編寫了大量的講義和參考書。這些教材對高校的教學工作發揮了極好的作用。近年來，隨著教學改革不斷深入和科學技術的飛速進步，有的教材內容已比較陳舊、落後，難以適應教學的要求，特別是在電子學和通信技術發展神速、可以講是曰新月異的今天，如何適應這種情況，更是一個必須認真考慮的問題。解決這個問題，除了依靠高校的老師和專家撰寫新的符台要求的教科書外，引進和出版一些國外優秀電子與通信教材，尤其是有選擇地引進一批英文原版教材，是會有好處的。 一年多來，電子工業出版社為此做了很多工作。他們成立了一個“國外電子與通信教材系列”項目組，選派了富有經驗的業務骨干負責有關工作，收集了230余種通信教材和參考書的詳細資料，調來了100余種原版教材樣書，依靠由20余位專家組成的出版委員會，從中精選了40多種，內容豐富，覆蓋了電路理論與應用、信號與系統、數字信號處理、微電子、通信系統、電磁場與微波等方面，既可作為通信專業本科生和研究生的教學用書，也可作為有關專業人員的參考材料。此外，這批教材，有的翻譯為中文，還有部分教材直接影印出版，以供教師用英語直接授課。希望這些教材的引進和出版對高校通信教學和教材改革能起一定作用。 在這里，我還要感謝參加工作的各位教授、專家、老師與參加翻譯、編輯和出版的同志們。各位專家認真負責、嚴謹細致、不辭辛勞、不怕瑣碎和精益求精的態度，充分體現了中國教育工作者和出版工作者的良好美德。 隨著我國經濟建設的發展和科學技術的不斷進步，對高校教學工作會不斷提出新的要求和希望。我想，無論如何，要做好引進國外教材的工作,一定要聯系我國的實際。教材和學術專著不同，既要注意科學性、學術性，也要重視可讀性，要深入淺出，便于讀者自學︰引進的教材要適應高校教學改革的需要，針對目前一些教材內容較為陳舊的問題，有目的地引進一些先進的和正在發展中的交叉學科的參考書；要與國內出版的教材相配套，安排好出版英文原版教材和翻譯教材的比例。我們努力使這套教材能盡量滿足上述要求，希望它們能放在學生們的課桌上，發揮一定的作用。 最後，預祝“國外電子與通信教材系列”項目取得成功，為我國電子與通信教學和通信產業的發展培土施肥。也懇切希望讀者能對這些書籍的不足之處、特別是翻譯中存在的問題，提出意見和建議，以便再版時更正。 吳佑壽 中國工程院院士、清華大學教授 “國外電子與通信教材系列”出版委員會主任